多入射角激光橢偏儀

高端研發(fā)領域專用的多入射角激光橢偏儀，采用多項專利技術，儀器硬件和軟件具有多項定制功能設計，適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數(shù)測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應用場合。 產(chǎn)品特點： 1.高精度、高穩(wěn)定性 2.一體化集成設計 3.測量簡單 4.快速、高精度樣品方位對準 5.多角度測量 6.實時測量 7.豐富的材料庫及物理模型 8.強大的數(shù)據(jù)分析和管理功能 應用領域： 可應用于納米薄膜的幾乎所有領域，如微電子、半導體、生命科學、電化學、顯示技術、磁介質及金屬處理等�？蓪{米層構樣品的薄膜厚度和折射率n及消光系數(shù)k進行快速、高精度、高準確度的測量，尤其適用于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)及質量監(jiān)控，可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構模系，以及塊狀材料（基底）。

技術指標：